LLC“Microcomposite”的金属和半导体表面分析
使用CM0745立体显微镜和MicroComposite LLC的Altami Studio软件分析压缩等离子体流处理的金属和半导体表面
使用Altami产品的经验
我们实验室的主要方向之一是使用新型等离子流 – 压缩等离子体流（CAT）处理材料。 这是一种高能效应，不仅会导致材料表面熔化，而且会对其施加压力，使表面熔体强烈混合，在效果停止后迅速结晶（图1）。
我们在研究中遇到的主要问题之一是研究样品的非常粗糙的表面，这是由PPC形成的（图2）。 我们面临着学习如何调整浮雕和控制其结构特征的任务。 在这种情况下，通常需要在样品的整个表面上以高放大率而非整体地评价表面形貌，其线性尺寸通常为约1cm。
传统显微镜难以获得有关浮雕的必要信息，因为许多显微镜不能提供三维图像，而金相显微镜通常具有最小放大率，这对于我们的目的来说足够大。因此，我们获得了立体显微镜CM0745，它在研究浮雕方面表现得非常完美。该显微镜的放大倍率范围为2.59至270倍，非常适合我们的任务，因为可以评估整个样品的整体表面浮雕，以及更详细地研究感兴趣的区域，并确定将进一步研究的区域。扫描电子显微镜。这大大节省了获取高科技信息的劳动力和时间。
使用“AltamiStudio”和数码目镜USB摄像头UCMOS03100KPA
除了立体显微镜，我们还购买了一个数码目镜相机，它可以嵌入显微镜中并用于在计算机上记录结果。由于相机不提供三维图像，而是平面图像，以及标准照明，图像质量并不总是成功，我们还开始使用 Altami Studio 软件，它允许您校准设备，自动检测相机，提供测量尺寸的方法，以及结果证明是最有价值的，允许你在图像上施加各种过滤器。这可确保照片的质量。
下图显示了使用Altami Studio获得的由CAT处理的单晶硅照片。应该注意的是，该样品在表面高度上具有非常强的差异。另外，作为光反射光的材料的硅难以在光学图像上可视化。然而，通过在Altami Studio中应用一系列过滤器，我们设法将高度粗糙的高部分（更白的区域）与更柔和的（暗区域）分开，这使我们能够判断等离子体暴露期间表面熔化的过程。
在下图中，使用显微镜和数码相机，我们发现铜样品的边缘在暴露于驱动桥时不会熔化。 因此，发现了与表面周围的等离子体流动相关的筛选效应。 图像非常清晰，信息丰富。
图4 – 用CAT处理的铜样品的边缘。
结论
Altami UCMOS03100KPA数码相机，Altami Studio软件以及复杂的CM0745立体显微镜可以有效地成功研究具有复杂浮雕的表面，可视化它们，在宽范围内改变放大倍率，不仅提供样品的局部视图，还可以观察其整体结构。